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雷达卡
天行健TRIZ培训中讲到：冲突矩阵给我们提供一个强有力的参考工具，通过查找矩阵中解决技术问题的发明原理，可以对潜在的技术解决方案进行预测，一旦评估这些空白区的技术方案具有可行性，就可以进行跟进研发和创新立项，用新的专利申请占领空白区域，从而高效地、系统性地实现专利挖掘与布局。
在解决实际问题时，具体的挖掘流程如下：
1.深入了解方案，确定技术问题
这里涉及的技术问题可以是产品本身缺陷导致的，也可以是从市场或用户处调研发掘而来。
2.转化工程参数，构建技术冲突
将上一步中找到的技术问题转化为工程参数，确定改善以及恶化的参数，二者组成一对技术冲突。为了保证找到问题的根源，此处需要研发人员能够充分理解39个工程参数。
3.检索发明原理，筛选可行方案
技术冲突确定后，便可以根据冲突矩阵找到对应的发明原理。随后通过组织发明人、专利人员、市场人员等讨论的方式，将推荐的发明原理逐条应用到具体问题上探讨实际可行性。此过程中，研发人员应与市场、销售人员进行充分讨论，从经济性、成本、政策、地理环境、人文等因素进行改进方案的筛选。
需说明的是，当冲突发生在同一参数的两个方向时，就不再是技术冲突而是物理冲突，无法使用冲突矩阵求解，因此冲突矩阵的对角线元素均为空元素；此外，TRIZ的冲突矩阵中还存在一些空白元素，这是TRIZ的研究者尚未发现解决这一冲突的发明原理。
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