薄膜物理第2章溅射镀膜

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薄膜物理第2章溅射镀膜
2.3 .1 概述              2.3.2 辉光放电2.3.3 表征溅射特征的基本参数2.3.4 主要溅射镀膜方式
第二章 薄膜物理的制备方法（Ⅱ）2.3 溅射镀膜
溅射法利用带电离子在电磁场的作用下获得足够的能量，轰击固体（靶）物质，从靶材表面被溅射出来的原子以一定的动能射向衬底，在衬底上形成薄膜。       溅射出的粒子大多呈原子状态，常称为溅射原子。用于轰击靶的荷能粒子可以是电子、离子或中性粒子，    因离子在电场下易于加速并获得所需动能，故大多采用离子作为轰击粒子。该离子又称入射离子，这种镀膜技术又称为离子溅射镀膜或沉积。
2.3 .1 概述

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关键词：电磁场