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第6章 扩散工艺化学原理
热扩散原理
杂质原子由浓度高地方向浓度低地方进行扩散。
比如在水里滴一滴墨汁，墨汁会在水中进行扩散。
杂质源   
杂质向硅片中进行扩散
掺杂阻挡层
扩散工艺: 高温下，将杂质原子向硅、锗晶体内部扩散。目标：制造P-N 结，制造集成电路扩散电阻、埋层和隔离。III A族元素杂质：硼 （B）                           扩散到硅晶体内部V A 族元素杂质：磷（P）、锑（Sb）

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