第八章 气相沉积技术
8-3 化学气相沉积(CVD) 化学气相沉积是利用气态物质在固体表面发生化学反应,生成固态沉积物过程。化学气相沉积过程能够在常压下进行,也能够在低压下进行。CVD技术是当前取得固态薄膜方法之一。
与物理气相沉积不一样是:化学气相沉积粒子起源于化合物气相分解反应。 在相当高温度下,混合气体与基体表面相互作用,使混合气体中一些成份分解,并在基体上形成一个金属或化合物固态薄膜或镀层。
|
楼主: 打了个飞的
|
116
0
[课件与资料] 8-2化学气相沉积省公开课金奖全国赛课一等奖微课获奖PPT课件 |
|
已卖:7567份资源 院士 94%
-
|
| ||
|
|
扫码京ICP备16021002号-2 京B2-20170662号
京公网安备 11010802022788号
论坛法律顾问:王进律师
知识产权保护声明
免责及隐私声明


