第六章 薄膜晶体管(TFT)
主要内容
(1)TFT发展历程
(2)TFT种类、结构及工作原理
(3)p-si TFT电特征
(4)p-si TFT制备技术
(5)TFT应用前景
TFT发展历程
(1)1934年第一个TFT创造专利问世-----构想.
(2)TFT真正开始----1962年,由Weimer第一次实现. 特点:器件采取顶栅结构,半导体活性层为CdS薄膜.栅介质层为SiO,除栅介质层外都采取蒸镀技术. 器件参数:跨导gm=25 mA/V,载流子迁移率150 cm2/vs,最大振荡频率为20 MHz.CdSe----迁移率达200 cm2/vs
TFT与MOSFET创造同时,然而TFT发展速度及应用远不及MOSFET?!


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