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光刻机，是芯片制造核心中的核心，光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来实现，光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。芯片在生产中需要进行 20-30 次的光刻，耗时占到 IC 生产环节的 50%左右，占芯片生产成本的 1/3。
荷兰ASML公司在国际光刻机市场上占据着绝对份额，在高端产品领域更是垄断市场，企业利润率非常高。日本尼康与佳能原本是ASML公司的主要竞争对手，但现阶段日本尼康在光刻机领域处于持续亏损状态，正在逐渐衰落，而佳能因亏损已退出高端光刻机市场。荷兰ASML公司垄断格局更加明显。
根据思瀚产业研究院发布的《2019-2024年光刻机行业市场分析及投资策略报告》显示，2017年，全球光刻机总出货量中，荷兰ASML公司出货占比为69%，在EUV光刻机领域其占有率为100%，在高端光刻机领域其占有率为89%。日本尼康出货量占比为9%;日本佳能出货量占比为25%，但佳能的出货集中在低端产品领域。现阶段，全球最顶尖的光刻机是EUV光刻机，即极紫外线光刻机，这种光刻机技术被荷兰ASML公司独家垄断。全球光刻机市场荷兰ASML公司一家独大。
我国光刻机研发企业有上海微电子装备(SMEE)、中子科技集团第四十五研究所、合肥芯硕半导体、先腾光电科技、无锡影速半导体科技五家公司。其中上海微电子技术水平在国内市场处于领先地位，是我国唯一一家可以生产90纳米光刻机的企业，代表着我国光刻机产业的技术水平。
我国光刻机产业起步晚，技术水平低，经验积累薄弱，现阶段最先进的光刻机产品是上海微电子的90纳米的工艺技术，与荷兰ASML公司的低端产品处于同一水平。且我国90纳米光刻机产品尚未经过晶圆厂的产线验证，与荷兰ASML公司量产的7纳米EUV光刻机技术相比，差距巨大。
人才是发展光刻机产业的重要因素之一，2017年6月，上海集成电路研发中心与荷兰ASML公司签署合作备忘录，并于2018年5月在上海合作共建了一个半导体光刻人才培训中心，这是我国第一个世界级光刻人才培训基地。随着技术的不断积累，以及人才逐步到位，我国光刻机行业将进入快速发展阶段，但仍有很长的道路要走。
思瀚产业研究院研究人员表示，我国是消费电子产销大国，计算机与手机的CPU制造都离不开光刻机，而我国的光刻机技术还处于探索阶段，取得了一些成就，但仍与国际先进水平相比差距巨大。现阶段，全球光刻机市场中荷兰ASML公司独占鳌头，在未来很长一段时间内，我国光刻机仍依赖进口。上海微电子作为后起之秀，技术积累薄弱，未来仍需不断提高研发水平，突破技术封锁。
据外媒报道，中芯国际已经订购了一台EUV设备，首台EUV设备购自ASML，价值近1.2亿美元。EUV是当前半导体产业中最先进也最昂贵的半导体制造设备，全球仅荷兰设备商ASML供应。
EUV是未来1x纳米继续走向1x纳米以下的关键微影机台，包括英特尔、三星、台积电等大厂都在争抢购买该设备。设备供应商ASML曾表示，一台EUV从下单到正式交货约长达22个月。
同样也在紧追1x纳米制程技术的华力上海Fab6也正式搬入的首台ASMLNXT1980Di微影机。这台微影机是目前大陆生产线上最先进的浸没式微影机。
长江存储的首台微影机也已运抵武汉天河机场，这台微影机为ASML的193nm浸润式微影机，售价7,200万美元用于14nm~20nm制程，陆续还会有多部机台运抵。
研发光刻机需要大量资金投入。成立之初，由于技术落后和资金不足，加上产业周期性衰退，ASML几乎陷入破产境地。好在飞利浦及时出手相救，加上公司轻资产战略，才渡过难关。
1995年公司上市，上市获得的充裕资金使公司有钱投入研发，同时也让公司有钱去并购其他公司来完善本公司的技术。这一步非常关键，没有钱什么也干不成。公司正是通过并购获得掌握了一系列相关先进技术。比如，2013年5月30日完成对光学技术提供商Cymer的收购，为公司量产EUV设备起了决定性作用。
光刻机技术含量极高，ASML因而非常重视研发。公司每年将营业收入的15%左右投入研发，超强研发投入让公司能适时推出新产品。
光刻机所需零部件多达数万个，这么多的零部件和核心技术，如果由一家公司来独立全部完成是不可能的。
ASML的成功并不是偶然的，这是ASML长期数十年努力经营的结果。ASML的成功为中国光刻机企业的发展提供了有益的经验借鉴和参考。现在中国光刻机企业面临的处境应该不比当初ASML的处境差，相信中国光刻机企业历经长期努力后也能取得成功。
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