楼主: fsaasdfs~
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[学习资料] 半导体晶圆的生产工艺流程介绍 [推广有奖]

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fsaasdfs~ 发表于 2024-12-18 14:15:53 |AI写论文

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从大的方面来讲,晶圆生产包括晶棒制造和晶片制造两大步骤,它又可细分为以下几道主要工序(其中晶棒制造只包括下面的第一道工序,其余的全部属晶片制造,所以有时又统称它们为晶柱切片后处理工序):
  晶棒成长
-->晶棒裁切与检测
-->外径研磨
-->切片-->圆边-->表层研磨
-->蚀刻-->去疵-->抛光-->清洗-->检验-->包装  1晶棒成长工序:它又可细分为:
  1)融化(
Melt Down
)  将块状的高纯度复晶硅置于石英坩锅内,加热到其熔点
1420°C
以上,使其完全融化。
  2)颈部成长(
Neck Growth
)  待硅融浆的温度稳定之后,将〈
1.0.0
〉方向的晶种慢慢插入其中,接着将晶种慢慢往上提升,使其直径缩小到一定尺寸(一般约
6mm左右),维持此直径并拉长
100-200mm
,以消除晶种内的晶粒排列取向差异。
  3)晶冠成长(
Crown Growth
)  颈部成长完成后,慢慢降低提升速度和温度,使颈部直径逐渐加大到所需尺寸(如
5、6、8、12吋等)。
  4)晶体成长(
Body Growth
)  不断调整提升速度和融炼温度,维持固定 ...
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关键词:生产工艺 工艺流程 半导体 Growth Crown

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