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数字光刻成像算法及其掩模优化方法研究
近年来,基于数字微镜器件(DMD)的无掩模数字光刻技术引起了人们的极大的关注。DMD作为数字光刻系统的掩模发生器,具有灵活、低成本、分辨率高、速度快以及可以显示任意形状的掩模图形且可以实时修改等优点。
已经在高精度掩模制作和微光学器件等领域得到了广泛的应用。目前这一技术在国际上仍处于探索研究阶段。
研究数字光刻成像理论以及快速精确的数字图形优化算法,对于研制高分辨率数字光刻设备具有重要的理论和实践意义。本论文以研究快速的数字光刻成像算法以及提高数字光刻成像质量为目标,对数字光刻技术进行了深入的研究。
主要研究内容和创新点如下:1.研究了部分相干成像理论模型,针对传输交叉矩阵计算复杂度高的缺点,结合DMD微镜的特点,提出了一种快速的部分相干成像方法。该方法具有计算速度快、算法效率高的特点,适合于利用计算机模拟仿真技术来分析数字掩模对DMD数字光刻成像质量的影响。
为了进一步提高算法的性能,提出了两种加速方法。利用SVD方法,提出了加速方法一,该方法通过降低矩阵的特征向量数的方法,提高算法的执行效率。
针对常用曝光光源对称的特点,提出了加速方法二,该方 ...

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关键词：方法研究 理论和实践 计算机模拟 特征向量 模拟仿真