光学薄膜基本工艺讲义

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光学薄膜基本工艺讲义
中国科学院上海技术物理研究所
上海欧菲尔光电技术有限公司
   周东平
        目录
  第一讲 真空系统的基本知识
  第二讲 制备技术
  第三讲 镀膜工艺
  第四讲 薄膜材料
  第五讲 膜厚监控
  第六讲 电子枪和离子源工作原理和作用
    第一讲 真空系统的基本知识
  1、真空的定义
  真空是压力低于一个大气压的任何气态空间。一般采用真
  空度来表示真空的高低。
  2、真空度的单位
  真空度以压强为单位来度量，压强高表示真空度低。压强
  低标识真空度高。
  真空度的国际单位是 帕斯卡简称帕（Pa）。
  毫米汞柱（mmHg）：1mmHg＝133.3Pa
  托（Torr）：1Torr＝1/760atm=133.3Pa
  巴（Bar）：1Bar＝105Pa
  3、平均自由程
  气体分子之间相邻两次碰撞的距离，其统计平均值为平均
  自由程。
  l=1/(√2π2n)=kT /(√2π2P）
  4、各真空区域的物理特性
   物理特性    粗真空   低真空     高真 ...

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