集成电路布图设计专有权保护研究

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集成电路布图设计专有权保护研究
如何确定布图设计是否侵权,各国法律关于判定标准都没有明确的规定。对此,有人认为,在矽威诉源之峰专有权侵权案中,法院依据双方布图设计整体相似度较高,元件空间布局、连接线路排布与走向,电路元件、电路元件尺寸等相同就足以确定布图设计是否侵权1;也有人认为,布图设计之间的相似度等以上要素仅具有参考价值2。
这是本文所分析案例中的第一个争议。此外,布图设计是智力创作成果,对于创作者来说是则一种财产性的权利,保护这种权利,本理所应当,但当这种权利与人权中的平等发展权相矛盾了该如何处理?发达国家和发展中国家基于不同利益诉求对专有的保护范围有扩大还是缩小的两种意见3。
这两种不同的诉求和理念所形成的争议,在现实中就体现为本案中是否需要销毁侵权产品争议。对于第一个争议,笔者认为,由于布图设计的特殊局限性,法院在确认布图设计是否侵权的过程中的核心工作是以布图设计创作者和制造者的角度4,确认被诉布图设计是否具有“独创性”,即使两布图设计大部分相同,但是如果其微小改动带来了功能的改变,性能的提升或是属于非常规设计的修改的话,也不能认定侵权。
同时,法院在此侵权与否的判决中没有考 ...

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关键词：集成电路 发展中国家 发达国家 空间布局 分析案例