脉冲激光沉积PLD

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脉冲激光沉积PLD
简单来讲，脉冲激光沉积PLD(Pulsed
Laser
Deposition)
确实是根基脉冲激光光束聚焦再固体靶面上，激光超强的功率使得靶物质快速等离子化，然后溅镀到目标物上。
脉冲激光沉积的优点有：
由于激光光子能量
特不高，可溅射制备
许多困难的镀层：如高温超导薄膜，陶瓷氧化物薄膜，多层金属薄膜等；
PLD能够用来合成纳米管，纳米粉末等
PLD能够特别轻易的连续融化多个材料，实现多层膜制备
PLD能够通过操纵激光能量和脉冲数，
周密的操纵膜厚。脉冲激光沉积对激光器的要求有：
尽可能防止热效应：激光波长越短，越
轻易实现“冷加工
〞因此193nm,248nm的准分子激光器和266nm,355nm的高次谐波ND:YAG固态激光器为客户所常用
大能量，短脉冲
制造超过靶材的阈值的功率密度
比立高的重复频率，提升溅射速度。
激光器使用简单，寿命长，易于维护
〔这一点Nd:YAG
固态激光器要好于准分子激光器
〕先锋公司相关产品
激光光源
局部：法国Quantel公司的脉冲Nd:YAG激光器，
(链接)
推举型号：Brillant
B系列：即插即用型 ...

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