基本构造n+ 衬底,漏极 Dn- 外延层,漂移区p 阱(又叫 p 基区
或体区)n+ 源区,源极 S多晶硅栅,栅氧层,
栅极 G
整个器件旳构成前述构造实际只是器件旳一种元胞,整个器件实际是由诸多这么旳元胞并联而成旳剖面图
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楼主: ruhemiadui
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[课件与资料] VDMOS工艺专题知识课件 |
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