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化学气相沉积技术
目录
CVD概述CVD法主要特点CVD法制备薄膜过程常见CVD反应方式CVD反应物质源CVD装置组成CVD装置选择影响CVD沉积层质量原因CVD种类CVD应用
CVD(化学气相沉积法):化学气相沉积是在一定真空度和温度下，将几个含有组成沉积膜层材料元素单质或化合物反应源气体，经过化学反应而生成固态物质并沉积在基材上成膜方法。
CVD概述

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