靶材用高纯铜全球市场总体规模
高纯铜是指纯度在5N(Cu≥99.999%)以上的金属铜(N 即代表铜的纯度,N 前面的数字越大铜纯度越高),高纯铜作为一种新兴材料,除用于制备高纯分析标准试料、电子工业各种连接线、电子封装用键合线、高品质音频线、集成电路、液晶显示器、溅射靶材及离子镀膜等高技术领域外,还是原子能、火箭、导弹、航空、宇宙航行以及冶金工业中不可缺少的宝贵材料。
据QYResearch调研团队最新报告“全球靶材用高纯铜市场报告2023-2029”显示,预计2029年全球靶材用高纯铜市场规模将达到6.7亿美元,未来几年年复合增长率CAGR为7.6%。
全球范围内靶材用高纯铜生产商主要包括JX Nippon Mining & Metals、Mitsubishi Materials、Hitachi Metals、Honeywell、Guoxi Ultrapure等。2021年,全球前四大厂商占有大约77.0%的市场份额。