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[图行天下] 依托四重曝光,长鑫存储称实现微缩工艺突破 [推广有奖]

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三沙市新居民 发表于 2026-9-21 11:45:58 |AI写论文

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9月20日,长鑫存储在世界制造业大会上宣布第五代DRAM技术平台(以下简称“G5平台”)实现量产,同步展出基于该平台打造的大容量LPDDR5X芯片。

长鑫存储表示,依托创新的四重曝光技术把内存阵列的有源区半间距微缩至11.95纳米,接近全球最顶尖的内存量产平台制程。通过变革工艺流程、采用新材料,存储电容深宽比达45:1。开发适配DRAM工艺的高介电常数金属栅(HKMG)工艺,成功将G5平台核心功能区高度缩小到6762纳米。

本次大会同步展出两款基于G5平台打造的LPDDR5X量产产品,单颗容量均为24Gb,较上一代同类型产品提升50%,分别采用496Ball、245Ball封装规格,可适配中高端智能手机、便携式消费电子等不同场景需求,目前均已进入规模量产阶段。

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