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(19) 中华人民共和国国家知识产权局
(12) 发明专利申请
(10) 申请公布号
(43) 申请公布日
(21) 申请号 202110930665.2
(22) 申请日 2016.09.26
(30) 优先权数据
2015-201200 2015.10.09 JP
(62) 分案原申请数据
201610849869.2 2016.09.26
(71) 申请人 东京毅力科创株式会社
地址 日本东京都
(72) 发明人 桥本祐作下青木刚 福田昌弘
田中公一朗
(74) 专利代理机构 北京林达刘知识产权代理事
务所(普通合伙) 11277
代理人 刘新宇
(51) I nt. Cl .
H01L 21/027 (2006.01)
H01L 21/67 (2006.01)
G03F 7/30 (2006.01)
(54) 发明名称
基板处理方法和基板处理装置
(57) 摘要
本发明提供一种能够更切实地抑制显影的
进行量由于基板上的位置的不同而产生偏差的
基板处理方法和基板处理装置。基板处理方法包
括： 在使晶圆以第一转速旋转、使接液面与晶圆
的表面相对的状态下，从喷出口向晶圆的表面供
给显影液，一边使接液面与显影液接触一边使喷
嘴移动， 从而在晶圆的表面上形成显影液的液
膜； 在液膜形成在晶圆的表面上之后， 在来自喷
出口的显影液的供给停止了的状态下，以比第一
转速低的第二转速使晶圆旋转；在以第二转速使
晶圆旋转之后，以比第一转速高的第三转速使晶
圆旋转； 在以第三转速使晶圆旋转之后，使晶圆
的转速为第二转速以下，从而在晶圆的表面上保
持液膜。
权利要求书2页 说明书14页 附图11页
CN 113745098 A
2021. 12. 03
CN 113745098 A

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关键词：PDF 中华人民共和国 国家知识产权局 处理方法 知识产权